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等離子刻蝕是太陽能電池片的生產工藝流程之一，其他流程有硅片檢測、表面制絨及酸洗、擴散制結、去磷硅玻璃、鍍減反射膜、絲網印刷、快速燒結等。東莞市普諾克真空科技有限公司旗下的真空系統在等離子刻蝕中的應用是陽能電池片制造企業所采用的，因為普諾克真空系統具有真空度高、性能穩定、壽命長、操作簡單維護方便，噪音少等特點。

我們先來了解一下等離子刻蝕是一個什么樣的過程。

由于在擴散過程中，即使采用背靠背擴散，硅片的所有表面包括邊緣都將不可避免地擴散上磷。PN結的正面所收集到的光生電子會沿著邊緣擴散有磷的區域流到PN結的背面，而造成短路。因此，必須對太陽能電池周邊的摻雜硅進行刻蝕，以去除電池邊緣的PN結。通常采用等離子刻蝕技術完成這一工藝。等離子刻蝕是在低壓狀態下，反應氣體CF4的母體分子在射頻功率的激發下，產生電離并形成等離子體。等離子體是由帶電的電子和離子組成，反應腔體中的氣體在電子的撞擊下，除了轉變成離子外，還能吸收能量并形成大量的活性基團。活性反應基團由于擴散或者在電場作用下到達SiO2表面，在那里與被刻蝕材料表面發生化學反應，并形成揮發性的反應生成物脫離被刻蝕物質表面，被真空系統抽出腔體。

等離子刻蝕機結構主要包括預真空室、刻蝕腔、供氣系統和真空系統四部分。

1.預真空室

預真空室的作用是確保刻蝕腔內維持在設定的真空度，不受外界環境（如：粉塵、水汽）的影響，將危險性氣體與潔凈廠房隔離開來。它由蓋板、機械手、傳動機構、隔離門等組成。

2.刻蝕腔體

刻蝕腔體是ICP 刻蝕設備的核心結構，它對刻蝕速率、刻蝕的垂直度以及粗糙度都有直接的影響。刻蝕腔的主要組成有：上電極、ICP 射頻單元、RF 射頻單元、下電極系統、控溫系統等組成。

3.供氣系統

供氣系統是向刻蝕腔體輸送各種刻蝕氣體，通過壓力控制器（PC）和質量流量控制器（MFC）精準的控制氣體的流速和流量。氣體供應系統由氣源瓶、氣體輸送管道、控制系統、混合單元等組成。

4.真空系統

真空系統有兩套，分別用于預真空室和刻蝕腔體。預真空室由機械泵單獨抽真空，只有在預真空室真空度達到設定值時，才能打開隔離門，進行傳送片。刻蝕腔體的真空由機械泵和分子泵共同提供，刻蝕腔體反應生成的氣體也由真空系統排空。

普諾克真空系統在等離子刻蝕中的應用的作用是可以除去太陽電池周邊的在擴散工藝中在硅片的表面和周邊都擴散了N型結，如果不去除周邊N型結會導致電池片正負極被周邊N型結連接起來時電池正負極相通起不到電池的作用。如果硅片未刻蝕或刻蝕不凈沒及時發現并下傳印刷將產生低并組片。我們可以通過紅外熱成像儀檢測并判斷低并組是否由刻蝕原因產生的。