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眾所周知，半導體工藝水平決定了晶體管尺寸大小。在半導體廠或光電廠中，真空系統應用于提供制程設備的真空吸盤或吸筆來搬運傳送晶片或玻璃，為半導體制程中相當重要之支援系統。本篇文章涉及半導體制程技術領域，在介紹真空系統在半導體制程中的應用之前，我司打算先對半導體制程和真空系統做些簡單的介紹。

在真空系統中，真空針對大氣而言，表示一特定空間或系統內部分氣體被排出，其內部空間的壓力小于大氣壓力，則稱此空間為真空或為真空狀態，簡單言之，空間內壓力低于一大氣壓力即為真空。在高科技制程中所要求的高真空或超高真空，就必須要有足夠的真空技術或設備才能達成。

半導體制程專用真空系統的真空度要求一般為700-~500mmHg之間，僅落在粗略真空范圍內，而制程設備真空度要求則視其應用范圍而定，而落在中真空度與超高真空度或以上之范圍。

不同類型的真空泵組合而成的系統，真空度也有所不一樣，關于真空系統的類型，東莞市普諾克真空科技有限公司整理出幾大類。

真空系統的類型有三種：

1.低真空系統

2.中真空系統

①由羅茨泵為主泵串聯機械泵而構成的系統；

②由油增壓泵為主泵串聯機械泵而構成的系統；

③由羅茨泵串聯小羅茨泵，再串聯機械泵而構成的系統。

3.高真空系統

①由擴散泵為主泵串聯羅茨泵，再串聯機械泵而構成的系統；

②由擴散泵為主泵串聯機械泵而構成的真空系統；

③由擴散泵為主泵串聯油增壓泵，再串聯機械泵而構成的真空系統。

根據上述所提到的內容，在半導體制程中，最佳的方法就是選擇應用高真空系統，高真空系統可以由不同的真空設備組合而成。

事實上簡單的真空系統只是能獲得一個粗真空，而想要獲得高真空時，通常在真空系統中串聯一個高真空泵，比如羅茨泵和螺桿泵等都是獲得高真空的泵。當串聯一個高真空泵之后，通常要在高真空泵的入口和出口分別加上閥門，以便高真空泵能單獨保持真空。如果所串聯的高真空泵是一個油擴散泵，為了防止大量的油蒸氣返流進入被抽容器，通常在油擴散泵的入口加一個捕集器——水冷障板。根據要求，還可以在管路中加上除塵器、真空繼電器規頭、真空軟連接管道、真空泵入口放氣閥，散熱器等等，這樣就構成了一個較完善的高真空系統。

關于半導體制程和真空系統，小編就介紹到這里，如果您仍對真空系統在半導體制程中的應用有什么疑惑的話，隨時可以聯系我司。