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東莞市普諾克真空科技有限公司旗下的旋片真空泵以清潔無污染，而且擁有較寬的抽速范圍以及良好的節能、穩定、易維護等優勢廣泛應用于半導體行業，半導體工藝用真空主要用在蒸發，濺射，PECVD，真空干法刻蝕， 真空吸附，測試設備，真空清掃等等鍵合工序，今天普諾克的技術人員來給大家普及一下旋片真空泵在半導體工藝中的應用不可忽視的安全問題。

半導體材料可以分為元素半導體和化合物半導體兩大類，元素半導體指硅、鍺單一元素形成的半導體，化合物指砷化鎵、磷化銦等化合物形成的半導體。砷化鎵的電子遷移速率比硅高5.7倍，非常適合用于高頻電路。

半導體生產制造過程中容易產生易燃易爆以及有毒的物質氣體，會對生產及人員安全造成威脅，因此，旋片真空泵在半導體工藝中的應用時需要注意的幾個安全事項主要有以下幾點內容：

1、定期清洗旋片真空泵及其他附件、過濾、管道，避免超壓；

德國旋片真空泵在半導體中應用時，抽取介質過程中經過反應室與真空泵，其成分可能極為復雜，如SiH4與O2在泵口形成SiO2，TiCl4水解會形成HCl；假設是油封式機械泵，這些氣體物質還可能與泵油發生化反。這些變化假設形成顆粒、可凝物或者腐蝕性介質，就可能堵塞真空泵或管路系統，影響真空泵性能，造成壓力上升或超壓，第一點中提到的危險性也更大。所以需要及時的清洗，并在必要的時候設置過濾設備。

2、有效稀釋有害氣體的濃度；

半導體易產生前面所說的易燃易爆、有毒的有害氣體。所以半導體用真空泵應用過程中，在抽取這些介質時就必須防止它們在真空泵內或者排氣過程中發生一些不可控的反應。比如SiH4、PH3、AsH3、B2H6等物質，在與空氣或氧接觸的時候，會引起燃燒甚至爆炸；氫氣在空氣中的混合比例達到一定程度與溫度時也會發生燃燒。這些都取決于該物質的量以及與環境的壓力、溫度的關系。因此半導體真空泵在抽取這些介質時，需要用氮氣之類的惰性氣體，在壓縮前即將這些氣體稀釋到當時條件下的安全范圍。

3、注意氧氣的濃度；

空氣中的氧如果濃度過高也會發生燃燒及爆炸風險。所以一些情況下需注意氧的濃度，采用惰性氣體來稀釋，防止濃度過高；假設是油封機械泵可能還需要采用一些惰性的與氧相容的真空泵油，并及時更換油濾和油品。

4、防止溫度過高；

半導體在真空泵的應用中，有害氣體比較多，而無論是干式真空泵還是油封機械泵，泵腔內溫度過高，高溫下易燃易爆及有毒氣體就會容易發生危險。

以上四個方面就是旋片真空泵在半導體工藝中的應用過程中最主要的幾個安全事項，我們一定不可忽視，技術人員說小問題對運轉、產量、效率和安全都有聯系，如果想要工作更加的順利，我們應該延長真空泵的使用壽命，努力協調平衡，保證效率與安全。